首页> 外文OA文献 >A silicon doped hafnium oxide ferroelectric p–n–p–n SOI tunneling field–effect transistor with steep subthreshold slope and high switching state current ratio
【2h】

A silicon doped hafnium oxide ferroelectric p–n–p–n SOI tunneling field–effect transistor with steep subthreshold slope and high switching state current ratio

机译:硅掺杂氧化铪铁电p-n-p-n sOI隧穿场效应晶体管,具有陡峭的亚阈值斜率和高开关电流比

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号